在高純度氣體標準物質(zhì)研制中對微量或痕量雜質(zhì)的準確監(jiān)測，往往是研制工作中的難點。高純氣 體是保證半導體芯片、大規(guī)模集成電路生產(chǎn)質(zhì)量的關鍵因素，高純氣體的生產(chǎn)要受到眾多因素的影響，從稱量配氣到使用，它要流經(jīng)很多管道，接觸許多配件、控制裝置和凈化設備，在長期運轉(zhuǎn)過程中，受配件、裝置、材質(zhì)的影響，局部可能發(fā)生泄漏或滲漏，均會造成高純氣體的污染。在制備高純氣體標準物質(zhì)的過程中，同樣也受到上述各種因素的影響。因此，對高純氣體純度的監(jiān)測，是保證生產(chǎn)過程產(chǎn)品質(zhì)量的關鍵環(huán)節(jié)。 
       為保證高純氣體標準物質(zhì)的質(zhì)量，必須配備高素質(zhì)的分析人員進行檢測和分析工作，其雜質(zhì)含量 應保證控制在10-6、10-9、10 -12 數(shù)量級。對從事 高純氣體質(zhì)量監(jiān)測的實驗室應當配置高精度的分析儀器，并且每年要進行計量認證，雖然投資較高，但對保證高純氣體的質(zhì)量,提供準確可靠的分析數(shù)據(jù)是絕對必要的。